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半导体薄膜技术基础

  • 作者: 李晓干,刘勐,王奇编著
  • 出版社:电子工业出版社
  • 出版日期:2018年01月
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内容简介

本书主要内容包括:(1)初步掌握半导体薄膜器件的基本工艺,特别是与集成电路器件工艺过程相关知识。(2)硅基半导体衬底晶体材料的生长技术。(3)各种半导体薄膜材料常用的制备技术,如:物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、分子束外延(MBE)、液相外延(LPE)、各种溅射沉积技术等,需要重点掌握这些制备技术的特点、工作原理和工艺过程,以及在薄膜生长过程中的热力学、动力学知识等,(4)了解和掌握各种半导体薄膜微观结构的表征技术。

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